項目名稱：半導體材料生產控溫

使用設備型號：反應釜防爆模溫機

在光刻膠的生產過程中，需要維持溫度在150攝氏度，同時由于反應過程中會產生熱量，因此需要適時進行冷卻以確保生產過程穩(wěn)定?？販氐膶ο笫欠磻械墓饪棠z。在光刻膠的生產過程中，溫度是關鍵參數之一，對產品質量和產能都有影響。

反應釜防爆模溫機擁有6KW的功率，整機采用隔離式防爆設計（EXdII BT4），具備PLC編程控制功能，同時帶有冷卻系統(tǒng)，其中包括1平方的板式換熱器。

反應釜防爆模溫機的高溫穩(wěn)定性和防爆設計為客戶的生產帶來了效率提高。光刻膠的生產過程現在更加可靠，產品質量得到了提高，產能也有了顯著的提高。